<?xml version="1.0" encoding="ISO-8859-1"?><article xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance">
<front>
<journal-meta>
<journal-id>1815-5901</journal-id>
<journal-title><![CDATA[Ingeniería Energética]]></journal-title>
<abbrev-journal-title><![CDATA[Energética]]></abbrev-journal-title>
<issn>1815-5901</issn>
<publisher>
<publisher-name><![CDATA[Universidad Tecnológica de La Habana José Antonio Echeverría, Cujae]]></publisher-name>
</publisher>
</journal-meta>
<article-meta>
<article-id>S1815-59012013000200007</article-id>
<title-group>
<article-title xml:lang="es"><![CDATA[Análisis estadístico de la caída de tensión en un sistema eléctrico de baja tensión]]></article-title>
<article-title xml:lang="en"><![CDATA[Statistical analysis of the voltage drop in a low voltage electrical system]]></article-title>
</title-group>
<contrib-group>
<contrib contrib-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Astorga Gómez]]></surname>
<given-names><![CDATA[Juan M]]></given-names>
</name>
<xref ref-type="aff" rid="A01"/>
</contrib>
</contrib-group>
<aff id="A01">
<institution><![CDATA[,Universidad de Atacama Instituto Tecnológico ]]></institution>
<addr-line><![CDATA[Copiapó ]]></addr-line>
<country>Chile</country>
</aff>
<aff id="A01">
<institution><![CDATA[,Instituto Tecnológico, Universidad de Atacama  ]]></institution>
<addr-line><![CDATA[Copiapó ]]></addr-line>
<country>Chile</country>
</aff>
<pub-date pub-type="pub">
<day>00</day>
<month>08</month>
<year>2013</year>
</pub-date>
<pub-date pub-type="epub">
<day>00</day>
<month>08</month>
<year>2013</year>
</pub-date>
<volume>34</volume>
<numero>2</numero>
<fpage>151</fpage>
<lpage>162</lpage>
<copyright-statement/>
<copyright-year/>
<self-uri xlink:href="http://scielo.sld.cu/scielo.php?script=sci_arttext&amp;pid=S1815-59012013000200007&amp;lng=en&amp;nrm=iso"></self-uri><self-uri xlink:href="http://scielo.sld.cu/scielo.php?script=sci_abstract&amp;pid=S1815-59012013000200007&amp;lng=en&amp;nrm=iso"></self-uri><self-uri xlink:href="http://scielo.sld.cu/scielo.php?script=sci_pdf&amp;pid=S1815-59012013000200007&amp;lng=en&amp;nrm=iso"></self-uri><abstract abstract-type="short" xml:lang="es"><p><![CDATA[En este trabajo se presenta un enfoque estadístico para la evaluación de la caída de tensión en un sistema eléctrico de baja tensión, basado en la aplicación de dos herramientas básicas del control estadístico de procesos conocidas como cartas de control y análisis de capacidad de procesos. Se muestran los resultados para dos sistemas de prueba, se realizan las pruebas de normalidad y autocorrelación parcial para las muestras, se interpretan los resultados de las cartas de control Xbarra-S y se evalúa la capacidad del proceso considerando las bases del mejoramiento de la calidad. Los sistemas de prueba usados en este trabajo son un sistema eléctrico monofásico de baja tensión y un sistema eléctrico trifásico de baja tensión. El objetivo principal de este trabajo es evaluar el estado de control estadístico de la variable de proceso "caída de tensión", como herramienta para el mejoramiento continuo de los procesos eléctricos.]]></p></abstract>
<abstract abstract-type="short" xml:lang="en"><p><![CDATA[This paper presents a statistical approach for the evaluation of the voltage drop in a low voltage electrical system, based on the application of two basic tools of statistical process control known as control charts and process capability analysis. The results for two test systems are shown, testing of normality and partial autocorrelation for samples are performed, the results of the control charts Xbar-S are interpreted and the process capability analysis are assessed considering the foundations for the quality improvement. The test systems used in this work are one electrical system single-phase low voltage and one electrical system of three-phase low voltage. The main objective of this paper is to evaluate the state of statistical control of the process variable "voltage drop", as a tool for continuous improvement of the electrical process.]]></p></abstract>
<kwd-group>
<kwd lng="es"><![CDATA[análisis de capacidad de procesos]]></kwd>
<kwd lng="es"><![CDATA[caída de tensión]]></kwd>
<kwd lng="es"><![CDATA[cartas de control Xbarra-S]]></kwd>
<kwd lng="es"><![CDATA[control estadístico de procesos]]></kwd>
<kwd lng="en"><![CDATA[process capability analysis]]></kwd>
<kwd lng="en"><![CDATA[voltage drop]]></kwd>
<kwd lng="en"><![CDATA[Xbar-S control charts]]></kwd>
<kwd lng="en"><![CDATA[statistical process control]]></kwd>
</kwd-group>
</article-meta>
</front><body><![CDATA[ <div align="right"><font size="2" face="Verdana"><b>APLICACIONES INDUSTRIALES</b></font>  </div>     <P>      <P>&nbsp;      <P>      <P><font size="4" face="Verdana"><b>An&aacute;lisis estad&iacute;stico de la ca&iacute;da    de tensi&oacute;n en un sistema el&eacute;ctrico de baja tensi&oacute;n</b></font>      <P>&nbsp;      <P><font size="3" face="Verdana"><b>Statistical analysis of the voltage drop in    a low voltage electrical system</b></font>      <P>&nbsp;     <P>&nbsp;      <P><font size="2" face="Verdana"><b>MSc. Juan M. Astorga G&oacute;mez</b></font>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P><font size="2" face="Verdana"> Instituto Tecnol&oacute;gico, Universidad de    Atacama, Copiap&oacute;, Chile.</font>     <P>&nbsp;     <P>&nbsp;     <P> <hr>     <P><font size="2" face="Verdana"><b>RESUMEN</b></font>      <P><font size="2" face="Verdana">En este trabajo se presenta un enfoque estad&iacute;stico    para la evaluaci&oacute;n de la ca&iacute;da de tensi&oacute;n en un sistema    el&eacute;ctrico de baja tensi&oacute;n, basado en la aplicaci&oacute;n de dos    herramientas b&aacute;sicas del control estad&iacute;stico de procesos conocidas    como cartas de control y an&aacute;lisis de capacidad de procesos. Se muestran    los resultados para dos sistemas de prueba, se realizan las pruebas de normalidad    y autocorrelaci&oacute;n parcial para las muestras, se interpretan los resultados    de las cartas de control Xbarra-S y se eval&uacute;a la capacidad del proceso    considerando las bases del mejoramiento de la calidad. Los sistemas de prueba    usados en este trabajo son un sistema el&eacute;ctrico monof&aacute;sico de    baja tensi&oacute;n y un sistema el&eacute;ctrico trif&aacute;sico de baja tensi&oacute;n.    El objetivo principal de este trabajo es evaluar el estado de control estad&iacute;stico    de la variable de proceso &quot;ca&iacute;da de tensi&oacute;n&quot;, como herramienta    para el mejoramiento continuo de los procesos el&eacute;ctricos. </font>     <P><font size="2" face="Verdana"><b>Palabras clave</b>: an&aacute;lisis de capacidad    de procesos, ca&iacute;da de tensi&oacute;n, cartas de control Xbarra-S, control    estad&iacute;stico de procesos.</font>      <P>  <hr>     <P><font size="2" face="Verdana"><b>ABSTRACT</b></font>      <P>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P><font size="2" face="Verdana">This paper presents a statistical approach for    the evaluation of the voltage drop in a low voltage electrical system, based    on the application of two basic tools of statistical process control known as    control charts and process capability analysis. The results for two test systems    are shown, testing of normality and partial autocorrelation for samples are    performed, the results of the control charts Xbar-S are interpreted and the    process capability analysis are assessed considering the foundations for the    quality improvement. The test systems used in this work are one electrical system    single-phase low voltage and one electrical system of three-phase low voltage.    The main objective of this paper is to evaluate the state of statistical control    of the process variable &quot;voltage drop&quot;, as a tool for continuous improvement    of the electrical process.</font>     <P><font size="2" face="Verdana"><b>Key words</b>: process capability analysis,    voltage drop, Xbar-S control charts, statistical process control.</font>     <P> <hr>     <P>&nbsp;     <P>&nbsp;     <P><font size="3" face="Verdana"><b>INTRODUCCION</b></font>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana">Uno de los principales indicadores que permite    medir la eficiencia de una instalaci&oacute;n el&eacute;ctrica en un sistema    de distribuci&oacute;n de baja tensi&oacute;n es la ca&iacute;da de tensi&oacute;n.La    ca&iacute;da de tensi&oacute;n en una instalaci&oacute;n el&eacute;ctrica corresponde    a la diferencia entre el voltaje del lado fuente y el voltaje del lado carga    [1] y depende de la longitud del alimentador, de la secci&oacute;n del conductor    y de la corriente que circula desde la fuente hacia la carga. Se puede obtener    la ca&iacute;da de tensi&oacute;n para un sistema monof&aacute;sico o trif&aacute;sico    usando las ecuaciones (<a href="#e1">1</a>) y (<a href="#e2">2</a>), respectivamente.    </font>      <P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/e0107213.gif" width="461" height="47">    <a name="e1"></a>      
]]></body>
<body><![CDATA[<P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/e0207213.gif" width="456" height="43">    <a name="e2"></a>     
<P>      <P><font size="2" face="Verdana">En la <a href="#e1">ecuaci&oacute;n 1</a>, VD<sub>1&#934;</sub>    es la ca&iacute;da de tensi&oacute;n para un sistema monof&aacute;sico (en Volt),    I<sub>1&#934;</sub> es la corriente que circula por un alimentador monof&aacute;sico    (en Ampere), K<sub>R</sub> y K<sub>X</sub> son factores de correcci&oacute;n    que dependen del grado de utilizaci&oacute;n de la corriente que circula por    el neutro, R es la resistencia del conductor (en &#937;/Km), X es la reactancia    del conductor (&#937;/Km), &#952; es el &aacute;ngulo de la impedancia del conductor    (en grados) y L es la longitud del conductor (en Km). Para sistemas con neutro    aterrizado se tiene que K<sub>R</sub> = K<sub>X</sub> = 2 [1]. En la ecuaci&oacute;n    2, VD<sub>3&#934;</sub> es la ca&iacute;da de tensi&oacute;n para un sistema    trif&aacute;sico (en Volt), I<sub>3&#934;</sub> es la corriente que circula    por un alimentador trif&aacute;sico (en Ampere), R es la resistencia del conductor    (en &#937;/Km), X es la reactancia del conductor (en &#937;/Km), &#952; es el    &aacute;ngulo de la impedancia del conductor (en grados) y L es la longitud    del conductor (en Km). </font>     <P><font size="2" face="Verdana">En Chile, los sistemas el&eacute;ctricos de baja    tensi&oacute;n (enti&eacute;ndase por baja tensi&oacute;n aquellos voltajes    menores o iguales que 1.000 Volt) est&aacute;n regulados por la Norma El&eacute;ctrica    Chilena 4/2003, en ella se indica, en la secci&oacute;n 7.1.1.3 que la ca&iacute;da    de tensi&oacute;n no debe superar el 3% de la tensi&oacute;n nominal de la alimentaci&oacute;n,    siempre que la ca&iacute;da de tensi&oacute;n total en el punto m&aacute;s desfavorable    de la instalaci&oacute;n no supere el 5% de la tensi&oacute;n nominal [2]. Dada    esta condici&oacute;n, los sistemas el&eacute;ctricos de baja tensi&oacute;n    se dise&ntilde;an para que la ca&iacute;da de tensi&oacute;n no supere el 3%    del voltaje nominal, haciendo necesario monitorear y controlar la ca&iacute;da    de tensi&oacute;n dentro de este rango de variabilidad de tal modo de garantizar    la calidad de suministro hacia las instalaciones. </font>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana">El art&iacute;culo se desarrolla de la siguiente    manera. En la primera parte del desarrollo se presentan las caracter&iacute;sticas    principales de las cartas de control Xbarra-S (considerando que en este trabajo    los registros se ordenaron en 24 subgrupos) y de los &iacute;ndices de capacidad    de procesos, en la secci&oacute;n siguiente se describen los sistemas de prueba    que se utilizaron para la adquisici&oacute;n de datos y toma de muestras, luego    se presentan los principales resultados obtenidos del procesamiento de datos    utilizando el software estad&iacute;stico de distribuci&oacute;n libre R, finalmente,    se exponen las principales conclusiones de la investigaci&oacute;n.</font>      <P>&nbsp;     <P>      <P>      <P><font size="3" face="Verdana"><b>DESARROLLO</b></font>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P>      <P><font size="2" face="Verdana"><b>CARTAS DE CONTROL</b></font>      <P><font size="2" face="Verdana">Las cartas de control fueron introducidas en    1924 por W.A. Shewhart de los laboratorios Bell Telephone [3], con el fin de    monitorear el valor medio de la caracter&iacute;stica de calidad y la variabilidad    del proceso, de tal modo de atribuir las variaciones detectadas durante el registro    de las observaciones a causas aleatorias o a causas asignables [4]. Para el    control de variables ordenadas en subgrupos es aconsejable trabajar con cartas    de control tipo Xbarra-R &oacute; Xbarra-S. Las cartas de control Xbarra-S son    muy &uacute;tiles cuando el tama&ntilde;o de los subgrupos es mayor que 12,    ya que permite reflejar de mejor manera el comportamiento de la variabilidad    del proceso [4]. Las ecuaciones (<a href="#e3">3</a>) y (<a href="#e4">4</a>)    permiten calcular los par&aacute;metros de las cartas Xbarra y S, respectivamente    [4]. </font>      <P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/e0307213.gif" width="563" height="60">    <a name="e3"></a>     
<P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/e0407213.gif" width="547" height="65">    <a name="e4"></a>     
<P>      <P><font size="2" face="Verdana">En las ecuaciones (<a href="#e3">3</a>) y (<a href="#e4">4</a>)    UCL, CL y LCL son los l&iacute;mites de control superior, central e inferior,    respectivamente, c<sub>4</sub> es una constante que depende del tama&ntilde;o del subgrupo,    n es el n&uacute;mero de subgrupos, X barra barra es la media de las medias    de los subgrupos, S barra es la media de las desviaciones est&aacute;ndar de    los subgrupos y las constantes A<sub>3</sub>, B<sub>3</sub> y B<sub>4</sub>    son factores de construcci&oacute;n de las cartas de control X barra - S. La    <a href="#f1">figura 1</a>, muestra una carta de control Xbarra - S t&iacute;pica.    </font>      <P>      <P>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/f0107213.gif" width="484" height="199">    <a name="f1"></a>      
<P align="center">&nbsp;     <P>      <P><font size="2" face="Verdana"><b>ANALISIS DE CAPACIDAD DE PROCESOS</b></font>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana">El an&aacute;lisis de capacidad de procesos,    es una herramienta estad&iacute;stica que permite estudiar la variabilidad de    la &quot;variable de proceso&quot; con respecto a los requerimientos de las    especificaciones del producto considerando los l&iacute;mites de las especificaciones,    el valor nominal (o Target) y la distribuci&oacute;n de la muestra. La <a href="#f2">figura    2</a>, muestra un gr&aacute;fico t&iacute;pico para el an&aacute;lisis de capacidad    de procesos, donde LSL corresponde al l&iacute;mite inferior de las especificaciones,    corresponde al valor medio del proceso, T es el valor nominal o Target y USL    es el l&iacute;mite superior de las especificaciones. </font>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/f0207213.gif" width="435" height="203">    <a name="f2"></a>      
<P><font size="2" face="Verdana">Para estudiar el desempe&ntilde;o de un proceso    se utilizan algunos &iacute;ndices introducidos por Victor E. Kane en 1986 [5],    estos son: &iacute;ndice de capacidad potencial del proceso C<sub>p</sub>, &iacute;ndice    de capacidad real del proceso C<sub>pk</sub> y el &iacute;ndice de centrado del proceso    K, adem&aacute;s, es com&uacute;n incluir en el an&aacute;lisis de capacidad    de procesos el &iacute;ndice de Taguchi (C<sub>pm</sub>), introducido por G. Taguchi en    1985 [6]. </font>     <P>      <P>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P><font size="2" face="Verdana"><b>&Iacute;ndice Cp</b></font>      <P><font size="2" face="Verdana">El &iacute;ndice de la capacidad potencial del    proceso Cp, compara la variaci&oacute;n de las especificaciones del proceso    con la variaci&oacute;n real observada. Se obtiene al dividir el ancho de las    especificaciones entre la amplitud de la variaci&oacute;n natural del proceso    como se muestra en la <a href="#e5">ecuaci&oacute;n 5</a>. </font>      <P>      <P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/e0507213.gif" width="277" height="67">    <a name="e5"></a>      
<P>      <P><font size="2" face="Verdana">Donde &#963; representa la desviaci&oacute;n est&aacute;ndar    del proceso. </font>     <P><font size="2" face="Verdana">En la <a href="#t1">tabla 1</a>, se describe    la categor&iacute;a de la calidad del proceso, seg&uacute;n el valor del &iacute;ndice    Cp [7]. </font>      <P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/t0107213.gif" width="580" height="199">    <a name="t1"></a>      
]]></body>
<body><![CDATA[<P>&nbsp;      <P>      <P><font size="2" face="Verdana"><b>&Iacute;ndice Cpk</b></font>      <P><font size="2" face="Verdana">El &iacute;ndice Cpk es considerado una versi&oacute;n    corregida del &iacute;ndice Cp, ya que toma en cuenta el centrado del proceso.    Cpk siempre va a ser menor o igual que Cp. Cuando el valor de Cpk es muy menor    que Cp la media del proceso est&aacute; alejada del centro de las especificaciones,    por el contrario, cuando el valor de Cpk es muy cercano a Cp la media del proceso    est&aacute; muy cerca del centro de las especificaciones. La <a href="#e6">ecuaci&oacute;n    6</a>, muestra el c&aacute;lculo del &iacute;ndice Cpk. </font>      <P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/e0607213.gif" width="370" height="68">    <a name="e6"></a>      
<P>      <P><font size="2" face="Verdana">Donde &#956; y &#963; representan la media y la desviaci&oacute;n    est&aacute;ndar del proceso, respectivamente. </font>     <P>      <P><font size="2" face="Verdana">En la <a href="#t2">tabla 2</a>, se describe    la capacidad real del proceso, seg&uacute;n el valor del &iacute;ndice Cpk [6].    </font>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/t0207213.gif" width="555" height="146">    <a name="t2"></a>      
<P>&nbsp;     <P>      <P>      <P><b><font size="2" face="Verdana">&Iacute;ndice K (&iacute;ndice de centrado    del proceso)</font></b><font size="2" face="Verdana"></font>      <P><font size="2" face="Verdana">Es un indicador que mide que tan centrada est&aacute;    la distribuci&oacute;n de un proceso con respecto a las especificaciones de    una caracter&iacute;stica de calidad dada. El &iacute;ndice de centrado del    proceso se obtiene por medio de la <a href="#e7">ecuaci&oacute;n 7</a>: </font>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/e0707213.gif" width="273" height="62">    <a name="e7"></a>      
<P><font size="2" face="Verdana">Si K es positivo, entonces la media del proceso    (&#956;) es mayor que el valor nominal (T), si K es negativo la media del proceso    (&#956;) es menor que el valor nominal (T). Se consideran aceptables valores de K    menores a 20%. </font>     <P>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P><font size="2" face="Verdana"><b>&Iacute;ndice Cpm (&iacute;ndice de Taguchi)</b></font>      <P><font size="2" face="Verdana">El &iacute;ndice de Taguchi es similar al Cpk,    pero considera en forma simult&aacute;nea el centrado y la variabilidad del    proceso. Se calcula por medio de la <a href="#e8">ecuaci&oacute;n 8</a>. </font>      <P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/e0807213.gif" width="364" height="70">    <a name="e8"></a>      
<P>      <P><font size="2" face="Verdana">Si Cpm&lt;1 el proceso no cumple con las especificaciones,    ya sea por problemas de centralizaci&oacute;n o exceso de variabilidad. Si Cpm&gt;1    el proceso cumple con las especificaciones y la media se encuentra dentro de    la tercera parte central de la banda de las especificaciones. Si Cpm&gt;1,33    el proceso cumple con las especificaciones y la media se encuentra dentro de    la quinta parte central de la banda de las especificaciones. </font>     <P>      <P><font size="2" face="Verdana"><b>PRUEBAS DE NORMALIDAD Y AUTOCORRELACION PARCIA</b></font>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana">Para aplicar la teor&iacute;a de cartas de control    y el an&aacute;lisis de capacidad de procesos es necesario realizar las pruebas    de normalidad y de autocorrelaci&oacute;n parcial sobre las muestras [4]. La    primera prueba tiene por objetivo validar la aceptaci&oacute;n de la hip&oacute;tesis    de normalidad para el conjunto de datos en estudio, mientras que la segunda    prueba tiene como fin probar si existe dependencia entre las observaciones de    las muestras. En este trabajo, se utiliza el software de distribuci&oacute;n    libre R [8], espec&iacute;ficamente, las herramientas del Test de Normalidad    de Shapiro-Wilk [9], el paquete &quot;plugin e-pack&quot; para la prueba de    autocorrelaci&oacute;n parcial y el paquete &quot;plugin qcc&quot; para el an&aacute;lisis    de capacidad de procesos y cartas de control. Una vez procesados los datos en    el software R, los criterios de aceptaci&oacute;n de los test de normalidad    y autocorrelaci&oacute;n parcial ser&aacute;n los siguientes: </font>     ]]></body>
<body><![CDATA[<P>      <P><font size="2" face="Verdana">&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;- Se aceptar&aacute; la hip&oacute;tesis de normalidad    cuando el p-valor sea mayor que 5%, es decir, cuando p-value &gt; 0.05 [4].    <br>   </font><font size="2" face="Verdana">&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;- Se aceptar&aacute;    la independencia de las observaciones mientras el factor de autocorrelaci&oacute;n    parcial (partial ACF, representado por barras verticales en el gr&aacute;fico    que entrega el software R) se encuentre dentro del rango de las bandas de confianza    del 5% [4]. </font>      <P>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana"><b>RESULTADOS DEL SISTEMA DE PRUEBA MONOFASICO</b></font>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana">El sistema de prueba monof&aacute;sico se desarroll&oacute;    como piloto en el laboratorio de circuitos el&eacute;ctricos de la carrera de    Tecn&oacute;logo en Electricidad del Instituto Tecnol&oacute;gico de la Universidad    de Atacama y se estructur&oacute; de la siguiente manera: <i>V<sub>F</sub></i>    (fuente de tensi&oacute;n de corriente alterna 220V RMS, 50 Hz), R<sub>C</sub>    y X<sub>C</sub> (carga de prueba tipo resistiva inductiva), R y X (conductor    de alimentaci&oacute;n N&#186;14 AWG) y Medida (Registrador marca HIOKI modelo    3286-20).Ver <a href="#f3">figura 3</a>. </font>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/f0307213.gif" width="361" height="169">    <a name="f3"></a>      
<P>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P><font size="2" face="Verdana">Las observaciones se tomaron durante 5 d&iacute;as    consecutivos, de lunes a viernes, con tiempos de muestreo de una hora. En la    <a href="#t1">tabla A.1</a>, del Anexo A. &quot;Datos sistemas de prueba&quot;,    se muestran los registros de voltaje del sistema monof&aacute;sico para los    d&iacute;as lunes a viernes. </font><font size="2" face="Verdana">La <a href="#t3">tabla    3</a>, muestra los resultados del p-valor para cada d&iacute;a de registro,    luego de aplicar el Test de Normalidad de Shapiro-Wilk a las muestras de voltaje    usando el software R [8]. </font>      <P>      <P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/t0307213.gif" width="550" height="99">    <a name="t3"></a>      
<P>&nbsp;     <P>      <P>      <P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/f0407213.gif" width="579" height="590">    <a name="f4"></a>      
<P>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P><font size="2" face="Verdana">La <a href="#f4">figura 4</a>, muestra los resultados    gr&aacute;ficos del comportamiento del factor de autocorrelaci&oacute;n parcial    (partial ACF) para la muestra monof&aacute;sica de voltaje. Al observar los    resultados de la <a href="#t3">tabla 3</a> y de la <a href="#f4">figura 4</a>    se puede concluir que la hip&oacute;tesis de normalidad se acepta y que las    observaciones de la muestra monof&aacute;sica de voltaje son independientes,    por lo cual, podemos construir las cartas de control X barra-S. <a href="#f5">Figura    5</a>. </font>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/f0507213.gif" width="578" height="408">    <a name="f5"></a>      
<P>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana">En la <a href="#f5">figura 5</a>, se muestran    las cartas de control X barra- S para la muestra monof&aacute;sica, considerando    24 subgrupos para 5 d&iacute;as de medici&oacute;n consecutiva. En la <a href="#f6">figura    6</a>, se muestra el comportamiento del proceso frente a los l&iacute;mites    de especificaciones de voltaje, que para este caso, corresponden a LSL=213,4(V)    y USL=220(V), seg&uacute;n lo se&ntilde;alado por la Norma El&eacute;ctrica    Chilena 4/2003 [2]. Para procesos con l&iacute;mites de especificaci&oacute;n    bilaterales, es com&uacute;n asumir como valor nominal o Target la media de    los l&iacute;mites de especificaci&oacute;n [10], de acuerdo a esto, el valor    Target para el sistema de prueba monof&aacute;sico ser&iacute;a 216,7 (V). </font>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/f0607213.gif" width="563" height="268">    <a name="f6"></a>      
<P>      <P><font size="2" face="Verdana"><b>ANALISIS DE RESULTADOS DEL SISTEMA DE PRUEBA    MONOFASICO</b></font>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana">La <a href="#t4">tabla 4</a>, muestra un resumen    con la interpretaci&oacute;n de los resultados del sistema de prueba monof&aacute;sico.    </font>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/t0407213.gif" width="580" height="322">    <a name="t4"></a>      
<P>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana"><b>RESULTADOS DEL SISTEMA DE PRUEBA INDUSTRIAL    TRIFASICO</b></font>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana">La carga de prueba industrial que se us&oacute;    para el muestreo, corresponde a una planta metal&uacute;rgica de la mediana    miner&iacute;a de la regi&oacute;n de Atacama, ubicada en la ciudad de Copiap&oacute;,    Chile. El sistema de muestreo se describe en el diagrama unilineal de la <a href="#f7">figura    7</a>.</font>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/f0707213.gif" width="385" height="182">    <a name="f7"></a>      
<P>      <P><font size="2" face="Verdana">Las observaciones se tomaron durante 7 d&iacute;as    consecutivos, de lunes a domingo, con tiempos de muestreo de una hora para cada    una de las tres fases en el lado de baja tensi&oacute;n (400 Volt) del transformador.    La carta X barra - S queda constituida por 24 subgrupos que representan las    24 horas y 7 muestras que representan los 7 d&iacute;as de registro. En la <a href="#ta2">tabla    A.2</a> del Anexo A. &quot;Datos sistemas de prueba&quot;, se muestran los registros    de voltaje del sistema trif&aacute;sico para las tres fases. La <a href="#t5">tabla    5</a>, muestra los resultados del p-valor para cada d&iacute;a de registro y    para cada fase, luego de aplicar el Test de Normalidad de Shapiro-Wilk usando    el software R [8]. </font><font size="2" face="Verdana">Al observar los resultados    de la <a href="#t5">tabla 5</a> y de la <a href="/img/revistas/rie/v34n2/f0807213.gif">figura    8</a>, se puede concluir que la hip&oacute;tesis de normalidad se acepta y que    las observaciones de la muestra trif&aacute;sica de voltaje para cada fase son    indepen dientes, por lo cual, podemos construir las cartas de control X barra-S    para cada fase.</font>      
]]></body>
<body><![CDATA[<P>      <P><font size="2" face="Verdana">De la <a href="#t5">tabla 5</a>, se puede observar    que todos los valores de p-valor son mayores que 5%, lo que indica que la hip&oacute;tesis    de normalidad para las muestras trif&aacute;sicas se acepta. </font><font size="2" face="Verdana">De    la <a href="/img/revistas/rie/v34n2/f0807213.gif">figura 8</a> se puede    concluir que las observaciones no est&aacute;n correlacionadas, por lo tanto,    las muestras son independientes. De las <a href="/img/revistas/rie/v34n2/f0907213.gif">figuras    9</a> y <a href="/img/revistas/rie/v34n2/f1007213.gif">10</a> se puede    observar que todas las observaciones se encuentran dentro de los l&iacute;mites    de control, por tanto el proceso se encuentra dentro de control estad&iacute;stico    tanto para la media de los voltajes como para la variabilidad de las muestras.</font>      
<P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/t0507213.gif" width="580" height="159">    <a name="t5"></a>      
<P>      <P>     <P><font size="2" face="Verdana">En la <a href="/img/revistas/rie/v34n2/f1107213.gif">figura    11</a>, se muestra el comportamiento del proceso frente a los l&iacute;mites    de especificaciones de voltaje trif&aacute;sico, que para este caso, corresponden    a LSL=388(V) y USL=400(V), seg&uacute;n lo se&ntilde;alado por la Norma El&eacute;ctrica    Chilena 4/2003 [2]. Para procesos con l&iacute;mites de especificaci&oacute;n    bilaterales, es com&uacute;n asumir como valor nominal o Target la media de    los l&iacute;mites de especificaci&oacute;n [10], de acuerdo a esto, el valor    Target para el sistema de prueba trif&aacute;sico ser&iacute;a 394 (V).</font>      
<P>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana"><b>ANALISIS DE RESULTADOS DEL SISTEMA DE PRUEBA    TRIFASICO</b></font>      <P>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P><font size="2" face="Verdana">La <a href="#t6">tabla 6</a>, muestra un resumen    con la interpretaci&oacute;n de los resultados para cada fase del sistema de    prueba trif&aacute;sico.</font>      <P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/t0607213.gif" width="580" height="353">    <a name="t6"></a>      
<P>      <P>&nbsp;     <P>      <P>      <P><font size="3" face="Verdana"><b>CONCLUSIONES</b></font>      <P>      <P><font size="2" face="Verdana">Al estudiar la muestra monof&aacute;sica de voltaje    se puede concluir que aunque el valor medio de ca&iacute;da de tensi&oacute;n    (214, 52 V) se encuentra dentro del rango establecido por la norma el&eacute;ctrica    chilena [2], el proceso se encuentra fuera de control estad&iacute;stico ya    que en la carta X barra se encontr&oacute; una observaci&oacute;n que supera    el l&iacute;mite superior de control. Con respecto a las muestras trif&aacute;sicas    se puede concluir que el proceso ca&iacute;da de tensi&oacute;n se encuentra    bajo control, aunque ninguna de las fases cumpla con una ca&iacute;da de tensi&oacute;n    menor que el 3% del voltaje nominal. Al considerar lo se&ntilde;alado por la    norma el&eacute;ctrica chilena [2], respecto de la ca&iacute;da de tensi&oacute;n    en el punto m&aacute;s desfavorable, las fases R y S cumplen con una ca&iacute;da    de tensi&oacute;n menor que el 5% del voltaje nominal. Los problemas en la muestra    trif&aacute;sica se presentan en el incumplimiento de los l&iacute;mites de    las especificaciones de voltaje y en la excesiva descentralizaci&oacute;n hacia    la izquierda de las muestras, a&uacute;n cuando el &iacute;ndice de capacidad    Cp es mayor que 2 [7], lo cual implica que el proceso tiene una calidad tipo    Seis Sigma (esto es debido a que la variabilidad de la variable voltaje en las    tres fases es muy baja). Luego de realizar el an&aacute;lisis estad&iacute;stico    de la ca&iacute;da de tensi&oacute;n para la muestras monof&aacute;sicas y trif&aacute;sicas    se puede recomendar establecer alg&uacute;n tipo de regulaci&oacute;n de voltaje    para llevar la media del proceso al valor Target, de este modo, el proceso mejora    aumentando su categor&iacute;a en capacidad potencial, reduce los costos de    explotaci&oacute;n del sistema el&eacute;ctrico debido a la descentralizaci&oacute;n    y aumenta su calidad por el cumplimiento de las especificaciones. El an&aacute;lisis    estad&iacute;stico de la ca&iacute;da de tensi&oacute;n llevado a cabo en este    trabajo permite esbozar las directrices y acciones que permiten la mejora del    proceso ligado a la calidad del suministro el&eacute;ctrico. Este tipo de enfoque    se puede aplicar al estudio de otras variables el&eacute;ctricas como potencia,    factor de potencia y a otras relacionadas directamente con la calidad de suministro    el&eacute;ctrico como los son Pst y THD.</font>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P>&nbsp;     <P>      <P>      <P><font size="3" face="Verdana"><b>REFERENCIAS</b></font>      <P>      <!-- ref --><P><font size="2" face="Verdana">1. G&ouml;NEN TURAN, &quot;Electric Power Distribution    System Engineering&quot;, McGraw-Hill, 1986, ISBN </font> <font size="2" face="Verdana">0-07-023707-7.    </font>      <!-- ref --><P><font size="2" face="Verdana">2. &quot;Electricidad. Instalaciones de consumo    en baja tensi&oacute;n&quot;, NORMA ELECTRICA CHILENA NCH Elec. 4/2003, Santiago    de Chile: Superintendencia de Electricidad y Combustibles S.E.C., Octubre de    2003.    </font>      <!-- ref --><P><font size="2" face="Verdana">3. HITOSHI KUME, &quot;Herramientas estad&iacute;sticas    b&aacute;sicas para el mejoramiento de la calidad&quot;, Editorial Norma, 2002,    ISBN 958-04-6719-6.    </font>      <!-- ref --><P><font size="2" face="Verdana">4. MONTGOMERY DOUGLAS C., &quot;Control estad&iacute;stico    de la calidad&quot;, Limusa Wiley, 2005, ISBN 968-18-6234-1.    </font>      <!-- ref --><P><font size="2" face="Verdana">5. KANE VICTOR E., &quot;Process Capability Indices&quot;,    Journal of Quality Technology, 1986, vol. 18, n.1, p.41-52, ISSN 0022-4065,    [consulta en mayo de 2012], Disponible en: <a href="http://math.kennesaw.edu/%7Evkane/LSS%20Info/KaneJQT.pdf" target="_blank">http://math.kennesaw.edu/~vkane/LSS    Info/KaneJQT.pdf</a></font>      <!-- ref --><P><font size="2" face="Verdana">6. TAGUCHI G., &quot;A tutorial on quality control    and assurance - the Taguchi methods&quot;, Las Vegas, Nevada: ASA Annual Meeting,    1985.    </font>      <!-- ref --><P><font size="2" face="Verdana">7. GUTIERREZ PULIDO H., DE LA VARA R., &quot;Control    estad&iacute;stico de la calidad y seis sigma&quot;, McGraw-Hill, 2009, ISBN    978-970-10-6912-7.    </font>      <!-- ref --><P><font size="2" face="Verdana">8. &quot;The R Project for Statistical Computing&quot;.    [Programa de computaci&oacute;n], R Development Core Team, [consulta en marzo    de 2012], Disponible en<a href="http://www.r-project.org" target="_blank"> http://www.r-project.org</a></font>      <!-- ref --><P><font size="2" face="Verdana">9. SHAPIRO S.S., WILK M.B., &quot;An analysis    of variance test for normality (complete samples)&quot;, Biometrika, 1965, vol.    52, p. 591-611, [consulta en julio de 2012], Disponible en: <a href="http://www.math.utah.edu/%7Emorris/Courses/ShapiroWilk.pdf" target="_blank">http://www.math.utah.edu/~morris/Courses/ShapiroWilk.pdf</a></font>      <!-- ref --><P><font size="2" face="Verdana">10. STOUMBOS Z.G., &quot;Process capability indices:    overview and extensions&quot;, Nonlinear Analysis: Real World Applications,    2002, vol.3, p. 191-210, [consulta en agosto de 2012], Disponible en: <a href="http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1468121801000220" target="_blank">http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1468121801000220</a></font>      <P>&nbsp;     <P>&nbsp;     <P><font size="2" face="Verdana">Recibido: Diciembre del 2012    <br>   Aprobado: Febrero del 2013</font>      <P>&nbsp;     <P>&nbsp;     <P>      <P>      <P>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P>     <P>      <P><font size="2" face="Verdana"><i>Juan M. Astorga G&oacute;mez</i>. Ingeniero    El&eacute;ctrico, Magister (c) en Ciencias con menci&oacute;n en Estad&iacute;stica    Industrial, Profesor Asistente, Instituto Tecnol&oacute;gico, Universidad de    Atacama, Copiap&oacute;, Chile. e-mail: <a href="mailto:juan.astorga@uda.cl">juan.astorga@uda.cl</a></font>      <P>&nbsp;     <P>&nbsp;      <P>      <P>      <P>      <P>      <P>      ]]></body>
<body><![CDATA[<P>      <P>      <P align="center"><img src="/img/revistas/rie/v34n2/tA107213.gif" width="450" height="516">    <a name="ta1"></a>      
<P>&nbsp;     <P>       ]]></body><back>
<ref-list>
<ref id="B1">
<label>1</label><nlm-citation citation-type="book">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[GöNEN]]></surname>
<given-names><![CDATA[TURAN]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[Electric Power Distribution System Engineering]]></source>
<year>1986</year>
<publisher-name><![CDATA[McGraw-Hill]]></publisher-name>
</nlm-citation>
</ref>
<ref id="B2">
<label>2</label><nlm-citation citation-type="book">
<source><![CDATA[Electricidad. Instalaciones de consumo en baja tensión]]></source>
<year>Octu</year>
<month>br</month>
<day>e </day>
<publisher-loc><![CDATA[Santiago de Chile ]]></publisher-loc>
<publisher-name><![CDATA[Superintendencia de Electricidad y Combustibles S.E.C.]]></publisher-name>
</nlm-citation>
</ref>
<ref id="B3">
<label>3</label><nlm-citation citation-type="book">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[HITOSHI]]></surname>
<given-names><![CDATA[KUME]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[Herramientas estadísticas básicas para el mejoramiento de la calidad]]></source>
<year>2002</year>
<publisher-name><![CDATA[Editorial Norma]]></publisher-name>
</nlm-citation>
</ref>
<ref id="B4">
<label>4</label><nlm-citation citation-type="book">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[MONTGOMERY DOUGLAS]]></surname>
<given-names><![CDATA[C]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[Control estadístico de la calidad]]></source>
<year>2005</year>
<publisher-name><![CDATA[Limusa Wiley]]></publisher-name>
</nlm-citation>
</ref>
<ref id="B5">
<label>5</label><nlm-citation citation-type="journal">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[KANE]]></surname>
<given-names><![CDATA[VICTOR E]]></given-names>
</name>
</person-group>
<article-title xml:lang="en"><![CDATA[Process Capability Indices]]></article-title>
<source><![CDATA[Journal of Quality Technology]]></source>
<year>1986</year>
<volume>18</volume>
<numero>1</numero>
<issue>1</issue>
<page-range>41-52</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B6">
<label>6</label><nlm-citation citation-type="book">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[TAGUCHI]]></surname>
<given-names><![CDATA[G]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[A tutorial on quality control and assurance - the Taguchi methods]]></source>
<year>1985</year>
<publisher-loc><![CDATA[Las Vegas^eNevada Nevada]]></publisher-loc>
<publisher-name><![CDATA[ASA Annual Meeting]]></publisher-name>
</nlm-citation>
</ref>
<ref id="B7">
<label>7</label><nlm-citation citation-type="book">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[GUTIERREZ PULIDO]]></surname>
<given-names><![CDATA[H]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[DE LA VARA]]></surname>
<given-names><![CDATA[R]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[Control estadístico de la calidad y seis sigma]]></source>
<year>2009</year>
<publisher-name><![CDATA[McGraw-Hill]]></publisher-name>
</nlm-citation>
</ref>
<ref id="B8">
<label>8</label><nlm-citation citation-type="book">
<source><![CDATA[The R Project for Statistical Computing]]></source>
<year></year>
<publisher-name><![CDATA[R Development Core Team]]></publisher-name>
</nlm-citation>
</ref>
<ref id="B9">
<label>9</label><nlm-citation citation-type="journal">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[SHAPIRO S.]]></surname>
<given-names><![CDATA[S]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[WILK M.]]></surname>
<given-names><![CDATA[B]]></given-names>
</name>
</person-group>
<article-title xml:lang="en"><![CDATA[An analysis of variance test for normality (complete samples)]]></article-title>
<source><![CDATA[Biometrika]]></source>
<year>1965</year>
<volume>52</volume>
<page-range>591-611</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B10">
<label>10</label><nlm-citation citation-type="journal">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[STOUMBOS Z.]]></surname>
<given-names><![CDATA[G]]></given-names>
</name>
</person-group>
<article-title xml:lang="en"><![CDATA[Process capability indices: overview and extensions]]></article-title>
<source><![CDATA[Nonlinear Analysis: Real World Applications]]></source>
<year>2002</year>
<volume>3</volume>
<page-range>191-210</page-range></nlm-citation>
</ref>
</ref-list>
</back>
</article>
